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- CVD- TiN, CVD- TiC, CVD- TiCN, CVD- Al2O3 Die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Deposition = CVD) ist eine Beschichtungsmethode die mittels thermisch herbeigeführter chemischer Reaktion erzeugt wird. Die Beschichtungstemperatur beträgt bis zu 1000°C und der Prozess wird unter Vakuum von 60 – 800 mbar herbeigeführt. Die zugeführten Gase werden dabei zersetzt und verbinden sich mit dem Substrat.